Al及Al合金靶材厂家直销

铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。
铝靶材物理性质：
元素符号	Al靶材	元素符号	Al靶材
相对分子质量	26.98	蒸发潜热	11.4
原子体积	9.996*10-6	蒸汽压	660/10-8-10-9
晶型	Fcc面心立方	电导率	37.67
堆积密度	74%	电阻系数	+0.115
配位数	12	吸收光谱	0.20*10-24
晶格能	200*10-7	泊松比	0.35
密度	2.7	可压缩性	13.3mm2/MN
弹性模量	66.6Gpa	熔点	660.2
剪切模量	25.5Gpa	沸点	约2500
常用纯度	99.9%3N，99.99%4N，99.999%5N，99.9999%6N
铝靶用途：适用于直流二较溅射、三较溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铝靶材的价格较低，所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的可以选择靶材料。